Oxide sputtering target

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Al2O3

Al2O3 doped ZnO (AZO)

BaO

BaTiO3

BaZrO3

Bi2O3

CaO

CeO2

CGO

Cr2O3

Cr-SiO

CuInO2

CuO/Al2O3

Dy2O3

Er2O3

Eu2O3
Fe2O3

Fe3O4

Ga2O3

Ga2O3 doped ZnO (GZO)

Gd2O3

HfO2

Ho2O3

IGZO

In2O3/CaO

Indium Tin Oxide

InGaZnO

ITO (In2O3-SnO2)

IZO (Indium Zinc Oxide, 90 wt% In2O3 / 10 wt% ZnO)
LaAl2O3

LaNiO3

LiNbO3

Lu2O3

La0.67Sr0.33MnO3 (LSMO)

MgO

MoO

MoO3
Nb2O5

Nd2O3

NiO

PbO

PbTiO3

PbZrO3

PZT (Plumbum Zirconate Titanate)

Sb2O3

Sb2O3 doped SnO2 (ATO)

Sc2O3

SiO

SiO2

Sm2O3

SnO2

SrBaTiO3

SrO

SrTiO3

SrZrO3

Ta2O5

Tb4O7

Ti2O3

Ti3O5

TiO

TiO2

TiO2-Nb2O5

Tm2O3
V2O5

VO2

WO2.9

WO3

Y2O3

Yb2O3

ZrO2-Y2O3 stabilized (YSZ)

ZnO

ZnO/LiCl

ZnO2/TiO2

ZnO2/ZrO2

ZrO2 doped with Ti

ZrO2+SiO2

ZrO2+Ti

ZrO2+Zr